¾ÆÀ̰Ǽ³³Ý Since1999 ¾÷°èÃÖÃÊ ÀÔÂûÁ¤º¸»çÀÌÆ®

°ø°í°³¿ä
°ø   °í   ¸í ¹ÝµµÃ¼ÁõÂøÀåºñ¸ðµâ ±¸¸Å ÀÔÂû  
°ø °í ¹ø È£ R00BK00000000-000 ¸Þ¸ð(°£Æí»êÃâ) ÅõÂûÇϱ⠹ߠÁÖ ±â °ü ÀÎÇϰø¾÷Àü¹®´ëÇÐ »êÇÐÇù·Â´Ü ¹ßÁÖó ³«ÂûºÐ¼®
 Á¾         ¸ñ ±âŸ¹°Ç°  Àü È­ ¹ø È£ ¢Ï * 
Áö ¿ª Á¦ ÇÑ
Àü±¹
[Áö¿ªÀǹ«ºñÀ²: *%]
°è ¾à ¹æ ¹ý
±â ÃÊ ±Ý ¾× * ¿ø ±âÃʱݾ×È®ÀÎ   ¿¹ °¡ ¹ü À§ +*% ~ -*% 
Ãß Á¤ °¡ °Ý * ¿ø  µµ±ÞÀÚ°ü±Þ¾×  
Åõ   Âû   ·ü *%  °ü±ÞÀÚ°ü±Þ¾×  
Æò °¡ ±â ÁØ   ¿¹Á¤(ÃßÁ¤)±Ý¾× * ¿ø  
ÀÔÂûÀÏÁ¤
ÀÚ°ÝÁ¶°Ç ¹× ƯÀÌ»çÇ×
Àû°Ý½É»ç º¸±â ¡Ø ¿øÈ°ÇÑ ÀÔÂûÀ» À§ÇÏ¿© °ø°í¹®°ú ±âÁؼ­¸¦ ¹Ýµå½Ã ¼÷ÁöÇÑ ÈÄ Âü¿©ÇÏ½Ã±æ ¹Ù¶ø´Ï´Ù.
¿øº»º¸±â ¡Ø ÅõÂû Àü ¹Ýµå½Ã °ø°í¿ø¹®°ú Àû°Ý½É»ç±âÁؼ­¸¦ È®ÀÎÇϼ¼¿ä!
¸µÅ©ÆÄÀÏ
¹ßÁÖó °ü·ÃÀÚ·á

°ø°í¹øÈ£: Á¦-È£

ÀÔ Âû °ø °í

*. ÀÔÂû°Ç¸í: ¹ÝµµÃ¼ÁõÂøÀåºñ¸ðµâ±¸¸Å

*. ÀÔÂûÂü°¡ µî·Ï¸¶°¨

°¡. ÀϽÃ: **³â *¿ù *ÀÏ(±Ý) *½Ã *ºÐ

³ª. Àå¼Ò: ÀÎÇϰø¾÷Àü¹®´ëÇÐ º»°ü *È£ Ãѹ«ÆÀ(±¸¸Å´ã´çÀÚ)

¡Ø ¹°Ç° ±Ô°Ý È®ÀÎ µîÀ» À§ÇÏ¿© ÀÔÂûÂü°¡¾÷ü ÀÓÁ÷¿øÀÇ Á÷Á¢ Á¢¼ö¿¡ ÇÑÇÏ¿© Á¢¼ö

- ¿ìÆíÁ¢¼ö(Äü¼­ºñ½º Æ÷ÇÔ)´Â ºÒ°¡

*. ÇöÀå¼³¸í: ¾øÀ½

*. ÀÔÂûÀϽÃ

°¡. ÀϽÃ: **³â *¿ù *ÀÏ(±Ý) *½Ã *ºÐ

³ª. Àå¼Ò: ÀÎÇϰø¾÷Àü¹®´ëÇÐ º»°ü *È£ ȸÀǽÇ

*. ÀÔÂûº¸Áõ±Ý

- ÀÔÂû±Ý¾×ÀÇ *ºÐÀÇ * ÀÌ»óÀÇ Çö±Ý, ¼öÇ¥, ÀÌÇຸÁõº¸ÇèÁõ±Ç ¶Ç´Â ±¹Ã¤¸¦

ÀÔÂûÀü¿¡ ³³ºÎÇÏ¿©¾ß ÇÑ´Ù.

¡Ø ³«ÂûÀÚ°¡ Á¤´çÇÑ ÀÌÀ¯¾øÀÌ °è¾àÀ» ü°áÇÏÁö ¾Æ´ÏÇÒ ½Ã´Â ¿ì¸® ´ëÇп¡ ±Í¼ÓµÈ´Ù.

*. ±¸ºñ¼­·ù ¹× ±Ô°Ý»çÇ×

- ¹°Ç°±¸¸Å ÀÔÂûÀ¯ÀǼ­ Âü°í

*. ±âŸ

- ÀÔÂû°ü·Ã ¹®ÀÇ: Ãѹ«ÆÀ(*-*-**)

- ±¸¸Å±Ô°Ý ¹®ÀÇ: ºÎƮķÇÁ»ç¾÷´Ü(*-*-**)

À§¿Í °°ÀÌ °ø°íÇÔ

**³â *¿ù *ÀÏ

ÀÎÇϰø¾÷Àü¹®´ëÇÐ »êÇÐÇù·Â´ÜÀå

¹°Ç°±¸¸Å ÀÔÂûÀ¯ÀǼ­

*. ÀÔÂû ¹æ¹ý: ÀϹݰæÀïÀÔÂû

ÀÔÂû¿¡ Âü¿©ÇÑ ¾÷ü Áß ¿¹Á¤°¡°Ý ÀÌÇÏÀÇ ÃÖÀú°¡ ÀÀÂû¾÷ü¸¦ ³«Âû ¾÷ü·Î ¼±Á¤ÇÔ

*. ÀÔÂû Âü°¡ ÀÚ°Ý

°¡.¡¸±¹°¡¸¦ ´ç»çÀÚ·Î ÇÏ´Â °è¾à¿¡ °üÇÑ ¹ý·ü ½ÃÇà·É¡¹Á¦*Á¶(°æÀïÀÔÂûÀÇ Âü°¡ÀÚ°Ý) ¹× µ¿¹ý ½ÃÇà±ÔÄ¢ Á¦*Á¶(ÀÔÂûÂü°¡ ÀÚ°Ý¿ä°ÇÀÇ Áõ¸í)¿¡ ÀÇÇÏ¿© ¼ÒÁ¤ÀÇ ÀÚ°ÝÀ» °®Ãá ¾÷ü

³ª. ±¹°¡¸¦ ´ç»çÀÚ·Î ÇÏ´Â °è¾à¹ý ½ÃÇà·É Á¦*Á¶ÀÇ ±ÔÁ¤¿¡ ÀÇÇÑ ÀÔÂûÂü°¡ Á¦ÇÑÀ» ¹ÞÁö ¾Æ´ÏÇÑ ¾÷ü·Î

¼ÒÁ¤ÀÇ ¼­·ù¸¦ °®Ãß¾î ÀÔÂûµî·ÏÀ» ÇÊÇÑ ¾÷ü

*. ÀÔÂûº¸Áõ±Ý ¹× ±Í¼Ó

°¡. ÀÔÂû±Ý¾×ÀÇ *ºÐÀÇ *ÀÌ»óÀ» ÀÔÂûÀÌÇຸÁõº¸ÇèÁõ±ÇÀ¸·Î ³³ºÎÇÔ

³ª. ³«ÂûÀÚ°¡ Á¤´çÇÑ ÀÌÀ¯¾øÀÌ ¼ÒÁ¤±âÀϳ»¿¡ °è¾àÀ» ü°áÇÏÁö ¾Æ´ÏÇÒ ¶§¿¡´Â ÀÔÂûº¸Áõ±ÝÀº ¿ì¸® ´ëÇп¡

±Í¼ÓÇÔ

*. ÀÔÂûÀÇ ¹«È¿: ±¹°¡¸¦ ´ç»çÀÚ·Î ÇÏ´Â °è¾à¹ý ½ÃÇà·É Á¦*Á¶¿¡ ÀÇÇÔ

*. ÀÔÂûµî·Ï¼­·ù

°¡. ÀÔÂûÂü°¡½Åû¼­ *ºÎ ºÙÀÓ

³ª. »ç¾÷ÀÚµî·ÏÁõ »çº» ¹× ¹ýÀεî±âºÎµîº» °¢ *ºÎ

´Ù. ÀÔÂûÀÌÇຸÁõº¸ÇèÁõ±Ç *ºÎ (ÀÎÇϰø¾÷Àü¹®´ëÇÐ »êÇмʷ´Ü: *-*-**)

¶ó. Àΰ¨Áõ¸í¼­ ¹× »ç¿ëÀΰ¨°è °¢ *ºÎ

¸¶. Áö¹æ¼¼ ¹× ±¹¼¼ ¿Ï³³Áõ¸í¼­ °¢ *ºÎ

¹Ù. Á¦Á¶»ç Á¤Ç°°ø±Þ ¹× ±â¼úÁö¿ø È®¾à¼­ *ºÎ - ÇÊ¿ä½Ã

»ç. ÀçÁ÷Áõ¸í¼­(´ë¸®ÀÎ Âü¼®ÀÇ °æ¿ì) *ºÎ

¾Æ. ¼¼ºÎ»êÃâ³»¿ª¼­(Á¦Ç°À̹ÌÁö Æ÷ÇÔ) *ºÎ

ÀÚ. û·Å¼­¾à¼­ *ºÎ ºÙÀÓ

Â÷. ±âŸ °ø°í·Î½á Á¤ÇÑ ¼­·ù

*. À¯ÀÇ»çÇ×

°¡. ÀÔÂûÂü°¡ÀÚ´Â ¹°Ç°±¸¸Å ÀÔÂûÀ¯ÀǼ­, ±Ô°Ý¼­ µîÀÇ ÀÔÂû¿¡ °üÇÑ ¸ðµç »çÇ×À» ¿ÏÀüÈ÷ ¼÷ÁöÇϰí ÀÔÂû¿¡

ÀÀÇÏ¿©¾ß ÇÔ(ÀਵµÀå ÁöÂü)

¡Ø ÀÔÂûµî·Ï¼­·ù´Â ÀÔÂûÂü°¡¾÷ü ÀÓÁ÷¿øÀÌ Á÷Á¢ ³»±³ÇÏ¿© Á¢¼öÇϸç, ¿ìÆíÁ¢¼ö(Äü¼­ºñ½º Æ÷ÇÔ)´Â ºÒ°¡

³ª. ÀÔÂûÂü°¡ ¼­·ù Áß¿¡¼­ »çº»À» Á¦ÃâÇÏ´Â ¼­·ù¿¡ ´ëÇÏ¿©¼­´Â ÇÊÈ÷ ¿øº»´ëÁ¶ÇÊÀ» ¸í±âÇϰí Àΰ¨À»

³¯ÀÎÇÏ¿©¾ß ÇÔ

´Ù. ÀÔÂû½Ã ÀÔÂû¼­ ¹× ÀÔÂû¼­ ºÀÅõ¿¡´Â ¹Ýµå½Ã Âü°¡¾÷ü µî·Ï ½Ã µî·ÏÇÑ Àΰ¨À» ³¯ÀÎÇÏ¿©¾ß À¯È¿ÇÔ

¶ó. ÀÔÂû Àü ¹°Ç° ±Ô°Ý È®ÀÎÀ» À§ÇÏ¿© Ãß°¡ ÀڷḦ ¿äûÇÒ ¼ö ÀÖÀ¸¸ç ±Ô°Ý¿¡ ºÎÇÕµÇÁö ¾ÊÀ»½Ã ÀÔÂûÂü°¡

¿¡ Á¦ÇÑÀÌ µÉ ¼ö ÀÖÀ½

¸¶. ±âŸ ÀÚ¼¼ÇÑ »çÇ×Àº ¿ì¸® ´ëÇÐ Ãѹ«ÆÀ ±¸¸Å´ã´çÀÚ(*-*-**)¿¡°Ô ¹®ÀÇ

*. ºÙÀÓ

*. ±¸¸Å±Ô°Ý¼­ *ºÎ

*. ÀÔÂûÂü°¡½Åû¼­ *ºÎ

*. û·Å¼­¾à¼­ *ºÎ. ³¡.

±¸ ¸Å ±Ô °Ý ¼­

°¡. ǰ¸í ¹× ¼ö·®

ǰ¸ñ

ǰ¸í ¹× ±Ô°Ý(Description)

¼ö·®(Quantity)

´ÜÀ§(Unit)

*

¹ÝµµÃ¼ÁõÂøÀåºñ¸ðµâ

*

´ë

³ª. ¼¼ºÎ±Ô°Ý

ǰ¸ñ¹øÈ£

*

ǰ ¸í

¹ÝµµÃ¼ÁõÂøÀåºñ¸ðµâ

¼ö·®

* ´ë

°¡. ÀåºñÀÇ Æ¯¼º ¹× ǰÁú

- Àåºñ´Â ÇϳªÀÇ ¹ÝµµÃ¼ ÁõÂø Àåºñ Module·Î Process Chamber¿Í Vacuum UnitÀ¸·Î ±¸¼ºµÊ.

- ¾Æ·¡ÀÇ ±Ô°ÝÀº ±âÀÚÀç *´ë¿¡ ´ëÇÑ ±Ô°ÝÀ̸ç, µ¿ÀÏÇÑ ±Ô°ÝÀÇ ±âÀÚÀ縦 ÃÑ *´ë ±¸¸ÅÇϰíÀÚ ÇÔ.

- ÁõÂø Àåºñ´Â *inch TargetÀÌ ÀåÂøµÇ¸ç, ±Ý¼Ó ¹Ú¸·À» ÁõÂøÇϱâ À§ÇÏ¿© DC Àü¿øÀ» »ç¿ëÇÔ.

- °¡½º·Î´Â Ar°ú N* °¡½º°¡ »ç¿ëµÇ¸ç N* °¡½º´Â ¹ÝÀÀ°¡½º·Î ÁÖÀԵǾî Reactive SputteringÀ» ÅëÇÏ¿© ÁúÈ­¹°À» ÁõÂøÇÒ ¼ö ÀÖÀ½.

- ¹°ÁúÀº ´ÙÀ½°ú °°Àº ¹°ÁúÀ» ¹Ú¸· ÁõÂøÇÒ ¼ö ÀÖÀ½.

*) Metal layer : Pt, Ti, Ta, Cu, Ni, Al, Ag, Au

*) Nitride layer : SiN, TiN, AlN

³ª. ´ëÇ¥ ±Ô°Ý

A. Feature

*. Sputtering System, **** (WDH)

*. * target (*inch) Magnetron Sputtering

*. Deposition chamber module, *ea

*. Deposition Power source using DC power, *ea

*. Gun shutter to prevent substrate contamination

*. Use of *¡° Si wafer, *¡° Glass wafer & pieces wafer sample (***)

B. System Composition:

*. Process Chamber

: Viewport with Contamination shield

: Side Pumping Port : NW* Angle Valve (Pneumatic)

: Backside Turbo Pump Port

: Upper flange - Target Mounting Port, Shutter Port

- Openning hinge for sample loading

: Gas Inlet Port : *.* CF

: Gauge Port : NW*

: Pumping Port : NW*

: Bottom flange Substrate stage port

*. Substrate Holder : Substrate Holder (*' substrate)

: Changable Z position

*. Gas Supply :¡¡*/*' Manual Diaphram Valve & */*' Meetering Valve for Ar. N*

: Gas line connection */* Swagelok, */* VCR, */* VCO, *mm Cu Flare fitting

: Each gas line leak checking is possible for every line connection

*. Vacuum Gauge : Pirani Gauge (Chamber)

*. Sputter Gun : Magnetron Cathode Type, * inch Target

*. Power Supply : DC Power Type

: Input *VAC, *A

: Output - *kV, *mA

: Output Current C.C Mode

: Output Voltage C.V Mode

: Soft Start

*. Miscellaneous Parts : Swagelok, VCR, VCO, *mm Cu Flare Fitting

*. System Controller : * sets of Control Box, Power Dist. Box, Working Table

C. Utility and Operation Environment Requirement

*. Clean Compressed Air

*. Process Gas £º¡¡Ar, N* Gas (*N)

*. Electrical Power Requirement : *VAC ´Ü»ó *kW*ea + Ground

*. Utility Hook Up (for * system)

- CDA Line Connection

- PCW Line connection

- Gas Line Connection (Ar, N*) within *m

- System Power Line Connection from Power Box

- Pump Exhaust Line Connection (to Hood)

´Ù. ºÎ´ëºÎǰ

*. Á÷·ù Àü¿ø(DC Power) * Set

*. Áø°ø è¹ö(Vacuum Chamber) * Set

*. ·ÎÅ͸® ÆßÇÁ(Rotary Pump) * Set

*. ½ºÆÛÅÍ À½±Ø °Ç(Sputter Cathode Gun) * Set

*. ÄÜÆ®·Ñ ½Ã½ºÅÛ(System Controller) * Set

¶ó. Á¦ÀÛ Èñ¸Á µµ¸é

±âŸ »çÇ×

°¡. ÇÏÀÚº¸¼ö

*) ǰÁú º¸Áõ ¼­ºñ½º

º» ÀåºñÀÇ º¸Áõ±â°£Àº *³âÀ¸·Î Çϸç Àåºñ ¸Å´º¾ó ¶Ç´Â ±³À°³»¿ë¿¡ µû¶ó Á¤»óÀûÀ¸·Î °ü¸® ¹× »ç¿ëÇÑ »óÅ¿¡¼­ º¸Áõ±â°£ ³»¿¡ ¹ß»ýÇÏ´Â °íÀå¿¡ ´ëÇØ ÇØ´ç ºÎǰÀ» ¹«»óÀ¸·Î ¼ö¸® ¶Ç´Â ±³È¯ÀÌ °¡´ÉÇϸç, ¹«»ó Á¤±âÁ¡°Ë ¼­ºñ½º¸¦ Á¦°øÇÑ´Ù.

*) ºÎǰ ¼ö±Þ ¼­ºñ½º

¤· »ç¿ëÀÚ°¡ ±¸ºñÇÏ¿©¾ß ÇÏ´Â ¼Ò¸ð¼º ºÎǰÀº »ç¿ëÀÚ¿¡°Ô ÀÏÁ¤ ¼ö·®À» ±¸ºñÇÏ¿© ¿î¿µ»ó¿¡ ¹®Á¦°¡ ¾øµµ·Ï À¯µµÇÑ´Ù.

¤· º°µµÀÇ spare parts·Î ±¸ºñÇÏ¿©¾ß Çϴ ǰ¸ñÀº »ç¿ëÀÚ¿¡°Ô ±¸¸Å¸¦ À¯µµÇÏ¿© stockÀ» °¡Á®°¡µµ·Ï ÇÏ¿©¾ß Çϳª, »ç¿ëÀÚ°¡ ±¸ºñÇÏ¿© ³õÁö ¸øÇÏ´Â ºÎǰµé¿¡ ´ëÇØ¼­´Â Àåºñ ±¸¼º ´Ü°è¿¡¼­ºÎÅÍ º»»ç°¡ °¡Àå ¸¹ÀÌ »ç¿ëÇÏ´Â ºÎǰÀ¸·Î ¼±Á¤ÇÏ¿©, À§±Þ ½Ã¿¡´Â º»»ç°¡ ¸¸µé°í ÀÖ´Â ÀåºñÀÇ ºÎǰ¿¡¼­ ²ø¾î´Ù »ç¿ëÇÒ ¼ö ÀÖ´Â ´ëü °¡´É ü°è·Î ²ø¾î°£´Ù.

¤· ¼Ò¸ð¼º ºÎǰ°ú spare part·Î ±¸ºñÇÏ¿©¾ß ÇÒ Ç°¸ñ Áß¿¡¼­ °¡Àå ±³Ã¼ÁֱⰡ ºü¸¥ ºÎǰ *~*À§ (Gauge, Fitting ºÎǰ, ¼¾¼­·ù¿Í Valve)´Â º»»ç¿¡¼­ spare·Î Ç×»ó ±¸ºñÇÏ¿© °í°´ÀÇ À§±ÞÇÑ »óȲ¿¡ ½Å¼ÓÈ÷ ´ëóÇÒ ¼ö ÀÖ°Ô ÇÑ´Ù.

*) »çÈÄ ¼­ºñ½º (AS)

¤· º¸Áõ±â°£ ÈÄÀÇ ¼­ºñ½º´Â º»»ç¿Í °í°´°£ÀÇ º°µµÀÇ °è¾à¿¡ ±âÃÊÇÑ´Ù. º°µµÀÇ °è¾à¿¡ µû¶ó º»»ç´Â ÇÊ¿äÇÑ Á¤º¸, À¯Áö°ü¸® ¼­ºñ½º, ¹®Á¦¹ß»ý ¿¹¹æ ÀÛ¾÷, Á¶Á¤ ¹× ±â¼úÀû ¹ßÀü µîÀ» À§ÇÑ ÀÛ¾÷À» ÇàÇÑ´Ù.

¤· º»»ç´Â ¾ç ´ç»çÀÚ °£¿¡ ¹®¼­·Î ÇÕÀÇµÈ ±â°£ µ¿¾È °øÁ¤ ¹× À¯Áöº¸¼ö ¼­ºñ½º¸¦ Á¦°øÇÑ´Ù. ±¸¸ÅµÈ ºÎǰÀÇ À¯Áöº¸¼ö´Â ±â¼úÀû ±Ô°Ý¿¡ »óÀÀÇÏ´Â ÀÏÁ¤ ¼Ó¿¡ Æ÷ÇԵȴÙ.

³ª. °Ë»ç ¹× ±âŸ

*) °Ë»ç

¤· Reactive sputtering Uniformity (TiN *nm thick. on Si *¡° wafer) : ¡¾*%

¤· Multi layer adhesion (Cu *nm/Ti *nm on *¡° Glass wafer) : *B

*) ±â¼ú Áö¿ø

Àåºñ¼³Ä¡ ¹× ±³À°¿Ï·á ÈÄ »ç¿ëÀÚÀÇ Àåºñ »ç¿ëÀÇ ¼÷´Þ ¹× ¼º°øÀûÀÎ Device °³¹ßÀ» À§ÇÏ¿© Á¦ÀÛ»ç ¿£Áö´Ï¾î°¡ ÁÖ±âÀûÀ¸·Î ¹æ¹®ÇÒ °ÍÀ̸ç ÀÌ ±â°£ µ¿¾È »ç¿ëÀÚ°¡

* Àåºñ ±âº»Á¶ÀÛ ¹× Àåºñ¿¡ ´ëÇÑ ±âº» ¼Ò¾ç ¹è¾ç

* Àåºñ »ç¿ë¹ýÀÇ ¿ÏÀüÇÑ ¼÷Áö·Î ¾÷¹«´É·ü Çâ»ó

* ¾ÈÀü °ü·Ã ÁöħÀ» ¼÷ÁöÇÏ¿© ¾ÈÁ¤Àû ¿î¿ë

* System Àü¹Ý¿¡ °üÇÑ ÀÌÇØ¿Í ¾ÈÁ¤Àû ¿î¿µ¿¡ ÇÊ¿äÇÑ ±â¼ú ¼÷Áö

* Àå¾Ö ´ëó ¹× º¹±¸ ´É·Â ¹è¾ç

* Àåºñ ±¸¼º ¹× ÀåºñÀÇ Á¦¹Ý ±â¼ú ÀÌÇØ

¸¦ ½ÀµæÇÏ¿© º¸´Ù ¾ÈÁ¤ÀûÀ¸·Î Àåºñ¸¦ »ç¿ëÇÒ ¼ö ÀÖµµ·Ï ±â¼ú Áö¿øÀ» ÇÒ ¿¹Á¤ÀÌ´Ù.

±× ÈÄ ±â¼úÁö¿ø¿¡ ´ëÇØ¼­´Â ±â¼úÁö¿ø ¹× ¼­ºñ½º Àü´ãÆÀÀ» ¿î¿µÇÑ´Ù.

¶ÇÇÑ °ø±Þ»ç¿¡¼­´Â º°µµÀÇ °è¾à ÈÄ Á¤±âÀûÀÎ °í°´°ü¸® ÇÁ·Î±×·¥À» ÅëÇØ ¼³Ä¡¿Ï·á ÈĺÎÅÍ Àåºñ Æó±â½Ã±îÁö *°³¿ù ´ÜÀ§·Î Á¡°Ë ¹× Á¤ºñ¸¦ ½Ç½ÃÇÏ¿© ¾ÈÁ¤ÀûÀÎ Àåºñ¿î¿µÀ» ÇÒ ¼ö ÀÖµµ·Ï ±â¼úÁö¿øÀ» ÇÑ´Ù.

*) ±â´É Çâ»ó Áö¿ø°èȹ (Controller, Àåºñ ¾÷±×·¹À̵å Áö¿ø°èȹ)

±â¼úÁö¿ø ¹× ¼­ºñ½º Àü´ãÆÀ¿¡¼­´Â »ç¿ëÀÚÀÇ Àåºñ¿î¿µ¿¡ ´ëÇÑ Áö¼ÓÀûÀÎ MonitoringÀ» ÅëÇÏ¿© ControllerÀÇ ¼öÁ¤ÀÌ ÇÊ¿äÇÏ´Ù°í ÆÇ´ÜµÇ´Â °æ¿ì, ¶Ç´Â »ç¿ëÀÚ ¿ä±¸¿¡ ÀÇÇØ Up-Grade ¼­ºñ½º¸¦ Á¦°øÇÒ ¿¹Á¤ÀÌ´Ù. ÀÌ´Â ÇöÀ广¹®À» ÅëÇÏ¿© ÀÌ·ç¾îÁö¸ç ¾ß°£ ¹× ±ä±Þ »óȲ ¹ß»ý ½Ã¿¡´Â On-LineÀ» ÅëÇÏ¿© ¿ø°ÝÀ¸·Î ÀÌ·ïÁú ¼ö ÀÖ´Ù.

Ãʱâ ÀåºñÀÇ Á¦ÀÛ ½Ã Àåºñ±â´É ¹× ±â°èÀûÀÎ Up-Grade°¡ °¡´ÉÇϵµ·Ï ¿©ºÐÀÇ Æ÷Æ®¸¦ µÎ¾î Á¦ÀÛÇÒ ¿¹Á¤À̸ç Ãß°¡ÀûÀÎ °øÁ¤ ¶óÀÎÀÌ ÇÊ¿äÇÑ °æ¿ì Ãß°¡ è¹öÀÇ ÀåÂøÀ» ÅëÇÏ¿© °¡´ÉÇϵµ·Ï Á¦ÀÛÇÒ ¿¹Á¤ÀÌ´Ù. Ãʱ⠰í·ÁµÇ¾ú´ø »ç¾ç ¿Ü Ãß°¡ÀûÀÎ Up-Grade´Â »ç¿ëÀÚ¿Í ÇùÀÇ ÈÄ ÀåºñÀÇ º¯°æ ¹× ºñ¿ëÀ» ÃÖ¼ÒÈ­ ÇÒ ¼ö ÀÖ´Â ¹æ¾ÈÀ¸·Î Á¦¾ÈµÇ¾îÁú °ÍÀ̸ç ÀÌ¿Í °°Àº Á¦¾È ¼­ºñ½º´Â ¹«»óÀ¸·Î °ø±ÞÇÑ´Ù.

*) Àåºñ ¼³Ä¡ : Àåºñ ¼³Ä¡´Â ¡®Á¦ÀÛ Èñ¸Á µµ¸é¡¯±âÁØÀ¸·Î ¼³Ä¡Çϸç, Ãß°¡ °ø»ç°¡ ÇÊ¿äÇÑ °æ¿ì¿¡´Â °ø±ÞÀÚ°¡ ºÎ´ãÇÔ.

ÀÔ Âû Âü °¡ ½Å û ¼­

½Å

û

ÀÎ

»óÈ£¶Ç´Â¹ýÀθí

¹ýÀεî·Ï¹øÈ£

´ë Ç¥ ÀÚ

»ç¾÷ÀÚµî·Ï¹øÈ£

ÁÖ ¼Ò

ÀüÈ­¹øÈ£

(´ã´çÁ÷¿ø)

*-**-**

(*-**-**)

ÀÔ

Âû

°³

¿ä

ÀÔÂû °ø°í ¹øÈ£

ÀÔ Âû ÀÏ ½Ã

ÀÔ Âû °Ç ¸í

ÀÔ

Âû

º¸

Áõ

±Ý

º¸ Áõ ±Ý À²

* £¥

º¸ Áõ ±Ý ¾×

ÀÏ±Ý ¿øÁ¤(£Ü )

³³ ºÎ ¹æ ¹ý

º¸Áõº¸ÇèÁõ±Ç

´ë

¸®

ÀÎ

ȍ

¿ë

ÀÎ

°¨

º» ÀÔÂû¿¡ °üÇÑ ÀÏüÀÇ ±ÇÇÑÀ» ´ÙÀ½ÀÇ

ÀÚ¿¡°Ô À§ÀÓÇÕ´Ï´Ù.

º» ÀÔÂû¿¡ »ç¿ëÇÒ Àΰ¨À» ´ÙÀ½°ú °°ÀÌ

½Å°íÇÕ´Ï´Ù.

¼º ¸í :

Áֹεî·Ï¹øÈ£ :

»ç¿ëÀΰ¨ :

º»ÀÎÀº ±Í ´ëÇп¡¼­ À§ÀÇ ¹øÈ£·Î °ø°íÇÑ ÀÔÂû¿¡ Âü°¡ÇϰíÀÚ ±Í ´ëÇп¡¼­ Á¤ÇÑ ÀÔÂûÀ¯ÀǼ­

¹× °ø°í»çÇ×À» ¸ðµÎ ½Â³«ÇÏ°í º°Ã· ¼­·ù¸¦ ÷ºÎÇÏ¿© ÀÔÂû Âü°¡½ÅûÀ» ÇÕ´Ï´Ù.

º°Ã·: *. »ç¾÷ÀÚµî·ÏÁõ »çº» *ºÎ.

*. Àΰ¨Áõ¸í¼­ *ºÎ.

*. ±âŸ °ø°í·Î½á Á¤ÇÑ ¼­·ù.

*. û·Å¼­¾à¼­ *ºÎ.

**³â ¿ù ÀÏ

½Å û ÀÎ : (Àΰ¨)

ÀÎÇϰø¾÷Àü¹®´ëÇÐ »êÇÐÇù·Â´ÜÀå ±ÍÇÏ

û ·Å ¼­ ¾à ¼­

´ç»ç´Â¡¸ºÎÆÐ ¾ø´Â Åõ¸íÇÑ ±â¾÷°æ¿µ°ú °øÁ¤ÇÑ ÇàÁ¤¡¹ÀÌ »çȸ¹ßÀü°ú ±¹°¡ °æÀï·Â¿¡ Áß¿äÇÑ °ü°ÇÀÌ µÊÀ» ÀνÄÇϸç, ±¹Á¦ÀûÀ¸·Î OECD ³ú¹°¹æÁö Çù¾àÀÌ ¹ßÈ¿µÇ¾ú°í ºÎÆÐ±â¾÷ ¹× ±¹°¡¿¡ ´ëÇÑ Á¦Àç°­È­ Ãß¼¼¿¡ ¸ÂÃß¾î û·Å°è¾à ÃëÁö¿¡ Àû±Ø È£ÀÀÇÏ¿© ÀÎÇϰø¾÷Àü¹®´ëÇп¡¼­ ¹ßÁÖÇÏ´Â ¸ðµç °ø»ç, ¹°Ç°, ¿ë¿ª µîÀÇ ÀÔÂû¿¡ Âü¿©ÇÔ¿¡ ÀÖ¾î ´ç»ç ÀÓÁ÷¿ø°ú ´ë¸®ÀÎÀº

*. ÀÔÂû°¡°ÝÀÇ À¯Áö³ª ƯÁ¤ÀÎÀÇ ³«ÂûÀ» À§ÇÑ ´ãÇÕÀ» Çϰųª ´Ù¸¥ ¾÷ü¿Í ÇùÁ¤, °áÀÇ, ÇÕÀÇÇÏ¿© ÀÔÂûÀÇ ÀÚÀ¯°æÀïÀ» ºÎ´çÇÏ°Ô ÀúÇØÇÏ´Â ÀÏüÀÇ ºÒ°øÁ¤ÇÑ ÇàÀ§¸¦ ¾Ê°Ú½À´Ï´Ù.

*. ÀÔÂû°è¾àü°á ¹× °è¾àÀÌÇà °úÁ¤¿¡¼­ °ü°èÀÚ¿¡°Ô Á÷°£Á¢ÀûÀ¸·Î ±ÝǰÇâÀÀ µîÀÇ ºÎ´çÇÑ ÀÌÀÍÀ» Á¦°øÇÏÁö ¾Ê°Ú½À´Ï´Ù.

*. ÀÔÂû°è¾àü°á ¹× °è¾àÀÌÇà°ú °ü·ÃÇÏ¿© °ü°èÀÚ¿¡°Ô ±Ýǰ, ÇâÀÀ µîÀ» Á¦°øÇÑ »ç½ÇÀÌ µå·¯³¯ °æ¿ì °è¾àü°á ÀÌÀüÀÇ °æ¿ì¿¡´Â ³«ÂûÀÚ °áÁ¤ Ãë¼Ò, °è¾àÀÌÇà Àü¿¡´Â °è¾àÃë¼Ò, °è¾àÀÌÇà ÀÌÈÄ¿¡´Â ´ç ÇØ °è¾àÀÇ ÀüºÎ ¶Ç´Â ÀϺΰè¾àÀ» ÇØÁ¦ ¶Ç´Â ÇØÁöÇÏ¿©µµ °¨¼öÇϰÚÀ¸¸ç, ¹ÎÇü»ç»ó ÀÌÀǸ¦ Á¦±âÇÏÁö ¾Ê°Ú½À´Ï´Ù.

*. ȸ»ç ÀÓÁ÷¿øÀÌ °ü°èÀÚ¿¡°Ô ±Ýǰ, ÇâÀÀ µîÀ» Á¦°øÇϰųª ´ãÇÕ µî ºÒ°øÁ¤ ÇàÀ§¸¦ ÇÏÁö¾Êµµ·Ï Çϴ ȸ»çÀ±¸®°­·É°ú ³»ºÎºñ¸® Á¦º¸ÀÚ¿¡ ´ëÇØ¼­µµ ÀÏüÀÇ ºÒÀÌÀÍóºÐÀ» ÇÏÁö ¾Ê´Â »ç±Ô¸¦ Á¦Á¤Åä·Ï ³ë·ÂÇϰڽÀ´Ï´Ù.

À§ û·Å°è¾à ¼­¾àÀ» »óÈ£ ½Å·Ú¸¦ ¹ÙÅÁÀ¸·Î ¹Ýµå½Ã Áöų °ÍÀ̸ç, ³«ÂûÀÚ·Î °áÁ¤µÉ ½Ã º» ¼­¾à³»¿ëÀ» ÀÌÇàÇϰí, À̸¦ ¾î°åÀ» ½Ã ÀÔÂûÂü°¡ÀÚ°Ý Á¦ÇÑ, °è¾àÇØÁö µî ÀÎÇϰø¾÷Àü¹®´ëÇÐÀÇ Á¶Ä¡¿Í °ü·ÃÇÏ¿© ¼ÕÇØ¹è»óÀ» û±¸Çϰųª ´ç»ç¸¦ ¹èÁ¦ÇÏ´Â ÀÔÂû¿¡ °üÇÏ¿© ¹ÎÇü»ç»ó ¾î¶°ÇÑ ÀÌÀǵµ Á¦±âÇÏÁö ¾ÊÀ» °ÍÀ» ¼­¾àÇÕ´Ï´Ù.

³â ¿ù ÀÏ

¼­ ¾à ÀÚ : ´ëÇ¥ (ÀÎ)

ÀÎÇϰø¾÷Àü¹®´ëÇÐ »êÇÐÇù·Â´ÜÀå ±ÍÇÏ

¿¹¶÷»ý¼º°ø°í¹®